Direct Photolithographic Patterning of Colloidal Quantum Dots Enabled by UV-Crosslinkable & Hole-Transporting Polymer Ligand

이 연구에서는 UV에 반응하는 고분자 리간드(poly(vinyltriphenylamine-random-azidostyrene), PTPA-N3-SH)를 콜로이드 양자점(quantum dot, QD)의 표면에 도입하여, 포토리소그래피(photolithography)를 통해 직접적으로 미세 패턴을 형성할 수 있는 기술을 개발하였다. 이 고분자 리간드는 정공 전달(triphenylamine)과 자외선 가교 반응(azide) 기능을 동시에 가지며, PR(photoresist) 공정 없이도 수십 마이크로미터 크기의 QD 패턴을 구현할 수 있다. 또한, 형광 효율 저하 없이 UV 가교가 가능하며, 다양한 색의 QD와 금속 및 페로브스카이트 나노입자에도 적용 가능함을 보였다. 실제로 이 방법을 통해 제작한 QD-LED는 최대 11,720 cd m⁻²의 밝기와 6.25%의 EQE를 기록하였다. 본 연구는 고해상도 QD 기반 디스플레이 및 나노소자 응용을 위한 단순하고 범용적인 패터닝 플랫폼을 제시한다.